Hlavní stránka > Výsledky hledání: keywords:"a-SiCO:H"
Hledej:
Tipy pro vyhledávaní :: Rozšířené hledání
Hledej ve sbírkách:
Seřadit podle: Zobrazit výsledky: Výstupní formát:
Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 2 záznamů.  Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures
 Sadílek, Jakub ; Salyk, Ota (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
This study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions.
Úplný záznam
Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures
 Sadílek, Jakub ; Salyk, Ota (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
This study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions.
Úplný záznam

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.
Digitální repozitář :: Hledej :: Nový záznam :: Personalizace :: Nápověda
Powered by Invenio v1.1.2
Spravuje admin.invenio@techlib.cz
Tato stránka je dostupná také v následujících jazycích:
Česky  English